潔淨棚具備多種潔淨等級及空間搭配可以根據使用需求設計制作，因此其簡便運用彈性大安裝容易且施工期短以及可移性爲其主要特點，潔淨棚同時可針對在一般等級的潔淨室中局部地區需要高潔淨度的地方做局部增設以降低成本。潔淨棚是一種可提供局部高潔淨環境的空氣淨化設備。潔淨棚主要由箱體、風機、初效空氣過濾器、阻尼層、燈具等組成，外殼噴塑。該産品既可懸挂，又可地面支撐，結構緊湊，使用方便。可以單個使用，也可多個連接組成帶狀潔淨區域。 潔淨室的溫濕度主要是根據工藝要求來确定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒适度感。随着空氣潔淨度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。

　　濕度過高産生的問題更多，相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結露，如果發生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生鏽。此外，濕度太高時将通過空氣中的水分子把矽片表面粘着的灰塵化學吸附在表面耐難以清除。相對濕度越高,粘附的難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導體器件容易發生擊穿。對于矽片生産佳溫度範圍爲35—45%。

　　具體工藝對溫度的要求以後還要列舉，但作爲總的原則看，由于加工精度越來越精細，所以對溫度波動範圍的要求越來越小。例如在大規模集成電路生産的光刻曝光工藝中，作爲掩膜闆材料的玻璃與矽片的熱膨脹系數的差要求越來越小。直徑100 um的矽片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因爲操作人員出汗以後，對産品将有污染，特别是怕鈉的半導體車間，這種車間不宜超過25度。